• 光学用物理蒸着機
    光学用物理蒸着装置は、フィルム材料を水冷銅るつぼに置き、電子ビーム加熱を直接使用してフィルム材料内の原子または分子を蒸発させて表面から放出し、その後基板表面に入り、凝縮してフィルムを形成します。{0}
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    保証: 1年
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  • 電子ビーム真空成膜機
    電子ビーム蒸着では、フィルム材料を水冷銅るつぼに置き、電子ビーム加熱を直接使用してフィルム材料内の原子または分子を蒸発させて表面から逃がし、その後基板表面に入り、凝縮してフィルムを形成します。{0}
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    保証: 1年
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  • 電子ビーム真空コーティング機-
    電子ビーム蒸着では、フィルム材料を水冷銅るつぼに置き、電子ビーム加熱を直接使用してフィルム材料内の原子または分子を蒸発させて表面から逃がし、その後基板表面に入り、凝縮してフィルムを形成します。{0}
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  • 電子ビーム光学コーター
    電子ビーム蒸着では、フィルム材料を水冷銅るつぼに置き、電子ビーム加熱を直接使用してフィルム材料内の原子または分子を蒸発させて表面から逃がし、その後基板表面に入り、凝縮してフィルムを形成します。{0}
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  • ゴールドカラー用TiNコーティング装置
    ゴールドカラー用TiNコーティング装置はPVD技術の中核となる装置です。真空環境でアーク、スパッタリング、その他の方法でチタン源を励起し、窒素と反応させることにより、ワークピースの表面に高性能 TiN 膜の層を堆積します。-
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    保証: 1年
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  • 窒化チタンゴールド真空コート機
    窒化チタンゴールド真空コート機はPVD技術の中核装置です。真空環境でアーク、スパッタリング、その他の方法でチタン源を励起し、窒素と反応させることにより、ワークピースの表面に高性能 TiN 膜の層を堆積します。-
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  • 窒化チタンコーティング装置
    窒化チタンコーティング装置はPVD技術の中核となる装置です。真空環境でアーク、スパッタリング、その他の方法でチタン源を励起し、窒素と反応させることにより、ワークピースの表面に高性能 TiN 膜の層を堆積します。-
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  • 電子ビーム蒸着真空成膜装置
    電子ビーム蒸着では、フィルム材料を水冷銅るつぼに置き、電子ビーム加熱を直接使用してフィルム材料内の原子または分子を蒸発させて表面から逃がし、その後基板表面に入り、凝縮してフィルムを形成します。{0}
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  • マルチアークコーティングマシン
    マルチアークコーティングマシンは、真空アーク放電の原理を使用して、真空環境でカソードターゲット(ソース材料)を蒸発させ、イオン化する装置であり、ワークピースの表面に堆積して薄膜を形成します。
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  • マルチアークイオン真空コーティング機
    HLシリーズマルチアークイオン真空コーティングマシンの作業原理は、真空アーク放電技術が蒸発源(カソード)が真空環境で点火され、カソード材料イオンが明るい点から放出されるアノードの間に自立するアーク放電が形成されるという蒸発源で使用されることです。
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  • プラズマコーティング機
    プラズマコーティング機(通常、マグネトロンスパッタリングイオンコーティング、アークイオンコーティングなど、物理的蒸気堆積におけるイオンコーティング技術を指します)は、高度な表面処理技術です。
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  • 真空堆積装置
    真空堆積装置の中核原理は、真空環境で材料源を蒸発またはイオン化し、生成された原子、分子、またはイオンが標的基質の表面に堆積し、1つ以上の薄膜を形成することです。
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