運用原則：
マグネトロンスパッタリングは、広く使用されている物理的蒸気堆積技術です。その中心的な利点は、比較的低い温度で高速で均一で密な粘着性薄膜を堆積させる能力と、その幅広い標的材料選択（金属、合金、セラミック、ポリマーなど）を堆積させる能力にあります。
アプリケーション：
半導体とマイクロエレクトロニクス
光コーティング
フラットパネルディスプレイ
装飾的なコーティング
ツールと金型のための超ハード摩耗耐性コーティング
特徴：
高い堆積速度
低温堆積
良い映画品質
物質的な普遍性
低動作空気圧
優れたプロセス制御機能
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