電子ビーム蒸着真空コーティング装置は、ハード フィルム、装飾フィルム、ITO フィルム、バンドパス フィルター、HR フィルムなどの AR/AF コーティングの蒸着に一般的に使用されます。高効率、生産能力の強化、生産コストの削減などの利点を誇ります。 AR フィルム (基板ガラスの透過率 > 91.5%) の場合、420-680nm の波長帯域で、片面平均透過率 > 95%、反射率 < 0.5% (平均)。両面の平均透過率 > 98%、反射率 < 0.5% (平均)。幅広い市場用途があります。
真空蒸着コーティング技術では、水冷鋼るつぼに蒸発材料を入れ、電子ビームで直接加熱します。{0}蒸発材料は蒸発し、基板表面に凝縮して膜を形成します。これは重要な加熱方法であり、真空蒸着コーティング技術の発展傾向です。電子ビーム蒸着は、従来の抵抗加熱蒸着の多くの欠点を克服し、特に高融点および高純度の薄膜材料の製造に適しています。--。
電子ビーム衝撃蒸着による真空蒸着技術は、電子ビーム蒸発源の形状に基づいて、リングガン、ストレートガン、E-型ガン、ホローカソード電子銃などのいくつかのタイプにさらに分類できます。
リングガンは、リング状の陰極から電子ビームを放出します。{0}ビームは集束されて偏向された後、るつぼに衝突し、金属が蒸発します。構造は比較的単純ですが、出力と効率が低いため、主に実験用の装置となっています。生産施設ではもう使用されていません。
ストレートガンは軸対称の線形加速器で、電子がフィラメント陰極から放出され、細いビームに集束され、陽極によって加速され、るつぼに衝突してコーティング材料を溶解および蒸発させます。直銃の出力は数百ワットから数百キロワットまであります。真空蒸着に使用されるものもあれば、真空製錬に使用されるものもあります。ストレートガンの欠点は、蒸発した物質がガンの構造を汚染し、動作が不安定になる可能性があることです。さらに、フィラメントから漏れるナトリウムイオンもコーティングを汚染する可能性があります。最近、西ドイツの企業が、電子ビーム出口に偏向磁場を追加し、フィラメントに独立した排気システムを組み込むことにより、直管銃の改良版を開発しました。これにより、コーティングのフィラメント汚染が完全に排除されるだけでなく、ガンの寿命も向上します。
270- 度の偏向を備えた e- 型電子銃は、直管電子蒸着の欠点を克服しており、最も広く使用されている電子ビーム蒸着源の 1 つです。- e- タイプの電子銃は、高い出力密度を生成し、高-融点-点の金属を溶かし、高エネルギーの蒸発粒子を生成します。その結果、膜と基板の間に強力な結合が得られ、良好な膜品質が得られます。欠点は、電子銃は高真空と負の高電圧を必要とするため、装置構造が複雑で安全性が低く、メンテナンスが難しく、コストが高いことです。
ホローカソード電子銃は、低電圧、高電流のホローカソード放電によって生成されたプラズマ電子ビームを加熱源として利用します。{0}{1}{1}これは、中空のタンタル管を陰極として、るつぼを陽極として、そしてタンタル管の近くに補助陽極を使用します。ホローカソード電子銃を使用した蒸着中、生成される蒸発イオンは高エネルギーでイオン化率が高く、高品質の膜が得られます。-ホローカソード電子銃は、e- 型電子銃よりも低い真空レベルを必要とし、低電圧で動作するため、装置が比較的簡単、安全、そして安価になります。現在、e-型電子銃とホローカソード電子銃の両方が我が国の蒸着およびイオンプレーティング装置に適用され成功しています。銃の出力は数万キロワットに達することがあり、機械やエレクトロニクスなどの産業のためにさまざまな薄膜が堆積されています。
電子ビーム蒸着真空コーティング装置の蒸発源の利点は次のとおりです。
1) 電子ビーム照射熱源はビーム電流密度が高く、抵抗加熱源に比べてはるかに高いエネルギー密度を実現します。高い蒸発率で最高 3000 ℃の温度で材料を蒸発させることができます。
2) 蒸発する材料は水冷るつぼ内に配置されるため、容器材料の蒸発、および容器材料と蒸発材料の間の反応が回避されます。これはコーティングの純度を向上させるために重要です。
3）蒸着材料の表面に直接熱を加えることができるため、熱効率が高く、熱伝導・輻射によるロスが少ない。
